Sumbangan 15 hb September 2024 – 1 hb Oktober 2024 Mengenai pengumpulan sumbangan

Фотолитографический метод создания тонкопленочных ВТСП...

Фотолитографический метод создания тонкопленочных ВТСП структур: Лабораторный практикум

Сычев С.А., Серопян Г.М., Позыгун И.С., Семочкин В.В.
Sukakah anda buku ini?
Bagaimana kualiti fail ini?
Muat turun buku untuk menilai kualitinya
Bagaimana kualiti fail yang dimuat turun?
Материал соответствует Государственному образовательному стандарту по специальности 010400 ''Физика''. Даются представления о фотолитографическом методе создания тонкопленочных структур с использованием метода сухого травления и, в частности, микроструктур из тонких ВТСП пленок для изготовления элементов сверхпроводящей криоэлектроники. Может быть использован студентами других специальностей
Tahun:
2004
Penerbit:
Изд-во ОмГУ
Bahasa:
russian
Halaman:
14
Fail:
PDF, 267 KB
IPFS:
CID , CID Blake2b
russian, 2004
Baca dalam Talian
Penukaran menjadi sedang dijalankan
Penukaran menjadi gagal

Istilah utama